[实用新型]一种可吸附不同规格电池片真空工作平台有效
申请号: | 201922456232.9 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN211088239U | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 杨峰;李朋波;洪昀;秦太平 | 申请(专利权)人: | 杭州中为光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人: | 陈小良 |
地址: | 310030 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种可吸附不同规格电池片真空工作平台,包括具有凹形槽的工作台固定座;固定于所述凹形槽底部的光源;设置于所述凹形槽内,且位于光源上方的密封透明件;固定于工作台固定座上面的玻璃台。在密封透明件上设有不同大小的真空腔室一、真空腔室二,真空腔室一、真空腔室二上开设有接气孔一、接气孔二,玻璃台上开设有与真空腔室一、真空腔室二相连通的真空吸孔一、真空吸孔二、真空吸孔三,通过真空设备连接接气孔一、接气孔二,实现吸附不同规格的电池片。本实用新型的可吸附不同规格电池片真空工作平台定位精确,吸取电池片效率更高,适用于多种规格的电池片,具有电池片吸附稳定,安全性高的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 吸附 不同 规格 电池 真空 工作 平台 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州中为光电技术有限公司,未经杭州中为光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201922456232.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造