[实用新型]一种真空吸附台面及曝光机有效
| 申请号： | 201922461093.9 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN212009275U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张雷 | 申请（专利权）人： | 源能智创（江苏）半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215399 江苏省苏州市昆*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空吸附台面及曝光机，真空吸附台面包括台面主体、遮盖面板、面板驱动装置，台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；遮盖面板覆盖在台面主体上，遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向；面板驱动装置驱动遮盖面板伸缩。曝光机包括真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件，真空吸附台面安装在运动组件上并在运动组件的驱动下在支架的下方运动，曝光镜头安装在支架上。本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机，通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔，以避免破真空吸附力不够，使其适用于不同大小的工件，节省了人力，也提高了稳定性，提高了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 吸附 台面 曝光 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于源能智创（江苏）半导体有限公司，未经源能智创（江苏）半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201922461093.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种铝型材热处理装置
- 下一篇：一种自动旋转焊接夹具
