[发明专利]对位标记、掩模板及显示基板母版有效
| 申请号： | 201980002708.1 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN113196167B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 肖丽;赵蛟;刘冬妮;玄明花;郑皓亮;陈亮;陈昊;张振宇;刘静;齐琪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种对位标记，包括：位于基板的第一面的第一对位标识；和，位于基板的第二面的第二对位标识。所述第二对位标识与所述第一对位标识匹配设置，所述第二对位标识能够表征其与所述第一对位标识之间的工艺偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 对位 标记 模板 显示 母版 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
