[发明专利]等离子体处理装置和生成等离子体的方法有效
| 申请号： | 201980004388.3 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111052874B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 久保田绅治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/505;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 例示的实施方式的等离子体处理装置包括腔室、高频电源部和修正信号生成部。高频电源部在第一期间输出脉冲状的高频电功率。高频电源部在第一区间之后的一个以上的第二期间输出合成高频电功率。修正信号生成部生成相对于第一期间的反射波监测信号以反相振荡的修正信号。高频电源部使用修正信号来生成合成高频电功率。电源部交替地反复进行第一期间的脉冲状的高频电功率的输出和一个以上的第二期间的合成高频电功率的输出。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 生成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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