[发明专利]用于使沉积在透明基底上的抗反射处理层硬化的方法及包括硬化的抗反射处理层的透明基底在审
| 申请号： | 201980006993.4 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN111542642A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | A·布尔梅;J·麦尔;P·维利 | 申请（专利权）人： | 柯马杜股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C03C23/00;C23C14/48;G02B1/113;G04B39/00;G02B1/12;G02B1/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 黄丽娜;吴鹏 |
| 地址： | 瑞士勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于使沉积在透明基底上的抗反射处理层(20)硬化的方法，该透明基底包括顶面(22a)和远离该顶面(22a)延伸的底面(22b)，抗反射处理(20)包括将由至少一种材料构成的至少一个抗反射层沉积在该透明基底的该顶面(22a)和该底面(22b)中的至少一者上的步骤，该硬化方法包括利用由单电荷和/或多电荷电子回旋共振(ECR)离子源(1)产生的单电荷和/或多电荷离子束(14)轰击该至少一个抗反射层已沉积在其上的至少一个顶面(22a)或底面(22b)的步骤。本发明还涉及已经历抗反射处理的透明基底，透明基底的顶面(22a)和底面(22b)中的至少一者涂覆有由至少一种材料构成的至少一个抗反射层，离子被注入在该至少一个抗反射层中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 透明 基底 反射 处理 硬化 方法 包括 | ||
【主权项】：
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