[发明专利]流体测定装置、流体测定方法以及程序在审
申请号: | 201980007436.4 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN111566456A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 长坂优志 | 申请(专利权)人: | 京瓷株式会社 |
主分类号: | G01F1/66 | 分类号: | G01F1/66;A61B5/026;A61B5/0285;G01F1/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王晖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一实施方式所涉及的流体测定装置具备:发光部,能够向包含流体的被照射物照射光;光接收部,能够对由流体散射的散射光进行接收;以及控制部,具有基于散射光来生成频谱的生成部、以及基于频谱的特征分量来推定流体的流动状态的推定部。并且,控制部在由生成部生成基于测定对象的流体的第1频谱、以及基于已知的流动状态的流体的第2频谱之后,由推定部对比第1频谱的特征分量和第2频谱的特征分量,从而能够推定测定对象的流体的流动状态。 | ||
搜索关键词: | 流体 测定 装置 方法 以及 程序 | ||
【主权项】:
暂无信息
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