[发明专利]清洁EUV腔室中的结构表面在审
| 申请号： | 201980012976.1 | 申请日： | 2019-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN111712765A | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 夏春光;白宗薰;J·T·斯特瓦特四世;A·D·拉弗格;D·范海杰恩斯伯根;D·R·埃文斯;N·V·德兹奥姆卡纳;马悦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B5/00;H05G2/00;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一些总体方面，使用一种方法清洁极紫外(EUV)光源的腔室内的结构的表面。该方法包括生成存在于邻近腔室内的非导电体的位置处的材料的等离子体状态。该材料的等离子体状态的生成包括在邻近非导电体的位置处电磁感应出电流，从而将邻近非导电体的材料从第一状态转变为等离子体状态。该材料的等离子体状态包括等离子体粒子，至少一些等离子体粒子是该材料的自由基。该方法还包括使得等离子体粒子能够经过结构表面，以在不从EUV光源的腔室中去除结构的情况下，从结构表面去除碎片。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 euv 中的 结构 表面 | ||
【主权项】：
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