[发明专利]包括气锁的设备在审
| 申请号： | 201980013260.3 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN111712766A | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | G·纳吉布奥格鲁;D·V·P·汉斯乔特;R·Y·范德莫西迪克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种设备可以构成光刻设备的部分，所述设备包括衬底台、投影系统、气锁和气流引导件。衬底台适用于支撑衬底。投影系统具有主体，所述主体限定内部和开口。投影系统配置并布置成将辐射束通过开口投影到由衬底台支撑的衬底上。气锁适用于提供来自所述开口远离所述内部的气流。气流引导件配置成引导所述气流的至少一部分远离由所述衬底台支撑的衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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