[发明专利]膜的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及膜形成用组合物在审

专利信息
申请号: 201980014436.7 申请日: 2019-02-21
公开(公告)号: CN111819306A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 泽野充;福原庆;增田诚也;岛田和人 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C23C26/00 分类号: C23C26/00;B05C5/02;B05D1/26;B05D3/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/037;G03F7/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种膜的制造方法,其包括使用组合物在部件上进行狭缝涂布的工序,上述部件至少在其一部分包含金属,上述组合物包含:聚酰亚胺前体;在23℃下对聚酰亚胺前体的溶解度不同的至少2种溶剂;及选自由表面活性剂及增塑剂组成的组中的至少一种。本发明还涉及与该膜的制造方法相关的层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及膜形成用组合物。
搜索关键词: 制造 方法 层叠 半导体器件 形成 组合
【主权项】:
暂无信息
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