[发明专利]脱模膜有效
申请号: | 201980017734.1 | 申请日: | 2019-03-19 |
公开(公告)号: | CN111819228B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | 六车有贵;多田博士;川原良介;前川博亮;小屋原宏明;丰岛克典 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | C08J7/00 | 分类号: | C08J7/00;B29C33/68;B32B27/00;C08J5/18;H05K3/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的的目的在于,提供具有比以往更优异的脱模性、也可适合用于利用RtoR方式的挠性电路基板的制造的脱模膜。本发明为一种脱模膜,其为具有至少1个脱模层的脱模膜,上述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50%以上。 | ||
搜索关键词: | 脱模 | ||
【主权项】:
暂无信息
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