[发明专利]反应处理装置在审

专利信息
申请号: 201980018161.4 申请日: 2019-03-12
公开(公告)号: CN111819276A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 福泽隆;竹内秀光;川口磨 申请(专利权)人: 日本板硝子株式会社
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00;G01N21/64
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 于洁;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 反应处理装置(30)包括:反应处理容器(10);对样本照射第1激发光并对样本产生的第1荧光进行检测的第1荧光检测装置(50);以及对样本照射第2激发光并对样本产生的第2荧光进行检测的第2荧光检测装置(54)。第1荧光的波长范围和第2激发光的波长范围的至少一部分重叠。第1激发光及第2激发光以规定的占空比闪烁发光,在将第1激发光和第2激发光的闪烁的占空比设为d时,第1激发光和第2激发光的闪烁的相位差被设定在2π(pm‑Δpm)[rad]~2π(pm+Δpm)[rad]的范围内、或2π{(1‑pm)‑Δpm}[rad]~2π{(1‑pm)+Δpm}[rad]的范围内(其中pm=d‑d2及Δpm=0.01×pm)。
搜索关键词: 反应 处理 装置
【主权项】:
暂无信息
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