[发明专利]真空加热装置、反射器装置有效
| 申请号： | 201980029651.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112041627B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 阪上弘敏;大野哲宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | F27B17/00 | 分类号： | F27B17/00;F27D7/06;F27D11/02;H01L21/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱美红;司昆明 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种具有不发生由热伸长带来的损伤的反射器装置的真空加热装置。将被行列配置的多个单位反射板（31）通过固定装置（21）和保持装置（11a～11d）分别安装于真空槽（17）的安装面（19）。如果在各单位反射板（31）被照射红外线，则随着保持装置（11a～11d）的变形部（64）的变形，各单位反射板（31）以固定装置（21）的安装场所为中心而热伸长。通过热伸长，向各单位反射板（31）附加的力被缓和，防止了各单位反射板（31）被安装于安装面（19）的部位的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 加热 装置 反射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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