[发明专利]用于原位夹具表面粗糙化的装置和方法在审
| 申请号： | 201980034220.7 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN112154377A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | E·佐丹 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68;H01L21/683;B24B27/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨飞 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种专用的粗糙化衬底，其被设置有适用于在半导体光刻装置中对夹具的表面进行原位粗糙化的磨料元件。还公开了一种使用所述粗糙化衬底的方法，其中所述粗糙化衬底被装载，被定位成与所述夹具相对，并且然后被压向所述夹具并被横向移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 原位 夹具 表面 粗糙 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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