[发明专利]基于电子束感应电流的晶片检查在审
申请号: | 201980039451.7 | 申请日: | 2019-05-23 |
公开(公告)号: | CN112313769A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 祃龙 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J37/28 | 分类号: | H01J37/28 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种晶片检查系统。根据某些实施例,该系统包括电子检测器,该电子检测器包括用以检测从晶片发射的二次电子或背散射电子(SE/BSE)的电路。电子束系统还包括电流检测器,该电流检测器包括用以检测来自晶片的电子束感应电流(EBIC)的电路。该电子束系统还包括控制器,该控制器具有一个或多个处理器和存储器,该控制器包括用以进行以下操作的电路:获取关于SE/BSE的数据;获取关于EBIC的数据;以及基于对SE/BSE数据和EBIC数据的评估来确定晶片的结构信息。 | ||
搜索关键词: | 基于 电子束 感应电流 晶片 检查 | ||
【主权项】:
暂无信息
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