[发明专利]溅射装置在审
| 申请号： | 201980041218.2 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN112313361A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 武井纯一;渡边直树;曽根浩;铃木直行 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的一形态的溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比所述狭缝板的耐热性高的材料形成。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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