[发明专利]含高度支化聚合物的制剂、高度支化聚合物和含此高度支化聚合物的电光器件在审

专利信息
申请号: 201980044174.9 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN112352331A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 比特·布克哈特;米丽娅姆·恩盖尔;马蒂亚斯·亨斯特;霍尔格·海尔;曼纽尔·汉布格尔;克里斯托夫·莱昂哈德;格雷·比雷 申请(专利权)人: 默克专利有限公司
主分类号: H01L51/54 分类号: H01L51/54;C08G61/00;C08G73/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王潜;郭国清
地址: 德国达*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及包含至少一种超支化聚合物和至少一种有机溶剂的制剂,所述超支化聚合物含有30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、5至30mol%的至少一种支化重复单元B、5至30mol%的至少一种其它重复单元C和5至40mol%的至少一种端基E,其中所述重复单元A、B和C彼此不同,其特征在于所述制剂具有≤25mPas的粘度。此外,本发明涉及相应的超支化聚合物及其制备方法。另外,本发明还涉及根据本发明的超支化聚合物在电子器件或光电器件中的用途,以及涉及含有这些聚合物的电子器件或光电器件。
搜索关键词: 高度 聚合物 制剂 电光 器件
【主权项】:
暂无信息
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