[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201980048174.6 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN112470076A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 西卷裕和;中岛诚;桥本圭祐 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G8/00;C08G8/20;C08G12/08;C08G12/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 孙丽梅;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
包含附加了下式(1)所示的基团的聚合物。(在式(1)中，R |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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