[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201980048782.7 | 申请日： | 2019-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN112470552A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 金子拓史;野口武史;佐藤龙也 | 申请（专利权）人： | 瓦爱新高新技术有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065;C23C16/505 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 日本东京都昭岛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的等离子体处理装置具有：真空容器，可控制内部压力；气体供应单元；电极，设于真空容器内且于上表面载置基板；以及天线，与电极对向配置并用于形成感应耦合；形成感应耦合的天线的一端经由匹配电路连接至高频电源，天线的另一端作为开放端，天线的长度未达RF频率的波长(λ)的1/2λ，在天线的RF供电侧，连接有并联于天线的阻抗调整电路，可将阻抗调整电路所为的合成阻抗的电抗分量，相对于供应至天线的RF频率，进行自电容性负载至感应性负载的调整。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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