[发明专利]图案化无电镀金属在审

专利信息
申请号: 201980050025.3 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN112789368A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 池田新地;迈克尔·莱利·文森 申请(专利权)人: 艾瑞科公司
主分类号: C23C18/16 分类号: C23C18/16;H05K3/18;C23C18/18
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 马丛
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及利用催化剂或金属薄膜通过一种或多种金属的原子水平沉积(ALD)——允许细小迹线沉积至介电材料中形成的沟槽中——的方法和系统,从而最小化由于嵌入的导体形式潜在的物理损伤,并在迹线之间留出细小空间,以防止迹线中的电迁移。
搜索关键词: 图案 电镀 金属
【主权项】:
暂无信息
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