[发明专利]光谱校正装置及光谱校正方法在审
| 申请号： | 201980050349.7 | 申请日： | 2019-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN112513619A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 川口洋平;乔治·查尔基迪斯;安田知弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 范胜杰;曹鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光谱校正装置及光谱校正方法，即使在荧光色素间同时出现峰的情况下也能够高精度地进行光谱校正。光谱校正装置算出用于颜色变换处理的颜色变换矩阵，包括：分光信号取得部，其取得随时间而检测到的荧光的分光信号；候选算出部，其基于所述分光信号，针对依赖于荧光色素的荧光的峰同时出现的频度的参数的每个值，算出颜色变换矩阵的候选；以及选择部，其基于针对各候选算出的评价值来选择颜色变换矩阵。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 校正 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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