[发明专利]氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法在审
| 申请号： | 201980054007.2 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN112567065A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 梅本启太;陆田雄也;白井孝典;井尾谦介 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/01 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;康泉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化物溅射靶，其由含有锆、硅及铟作为金属成分的氧化物组成，所述氧化物溅射靶的特征在于，靶溅射面内的密度的偏差为3％以下，厚度方向上的密度的偏差为5％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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