[发明专利]光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置在审
| 申请号： | 201980059845.9 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN112740096A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 长谷山亮;杉田知也 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B3/06;G02B13/00;G02B26/10;H01S5/02253 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 韩丁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置中，对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节后使其聚光于规定的聚光位置，减小聚光位置处的光斑直径。光源装置(100)具备：半导体激光器(10)；光束整形透镜(20)，对从半导体激光器(10)出射的光线(50)的纵横比进行调节；和聚光透镜(30)，使从光束整形透镜(20)出射的光线(50)聚光于聚光位置(P)，光束整形透镜(20)设为相对于入射的光线(50)的慢轴(S)的方向具有负的光焦度的柱面透镜。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 使用 投影 以及 荧光 激励 | ||
【主权项】：
暂无信息
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