[发明专利]光刻设备中的物体在审
| 申请号： | 201980064875.9 | 申请日： | 2019-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112889003A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | A·尼基帕罗夫;J·F·M·贝克尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;C23C16/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种物体，诸如用于浸没式光刻设备的传感器，所述物体具有与浸没液体接触的外层，并且其中，所述外层具有包括稀土元素的成分。本发明还涉及包括这样的物体的浸没式光刻设备和用于制造这样的物体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 中的 物体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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