[发明专利]等离子体处理室在审
| 申请号： | 201980065528.8 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN112805805A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 许临;托马斯·R·史蒂文森;格雷森·福特;萨蒂什·斯里尼瓦桑 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用来当作等离子体处理室的一部分的部件，所述等离子体处理室用于处理晶片。所述部件包含掺杂有钨、钽或硼中的至少一者的硅碳化物部件主体。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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