[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

摘要

提供一种能够监视喷出到基板的端部的液柱状的处理液的着落位置的基板处理方法。基板处理方法具有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转来使基板旋转。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯构件上升，使杯构件的上端位于比基板的上表面高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置低的位置的喷嘴的喷出口向基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使相机对从基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域进行拍摄，获得拍摄图像，在该拍摄区域中包括从喷嘴喷出的处理液以及映现在基板的上表面的喷出液的镜像。在监视工序中，基于拍摄图像中的处理液与该镜像，监视处理液的着落位置。