[发明专利]用于惰性阳极镀覆槽的设备在审
| 申请号： | 201980065942.9 | 申请日： | 2019-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN112805415A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 格雷戈里·卡恩斯;布莱恩·L·巴卡柳;雅各布·柯蒂斯·布利肯斯德弗 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D17/12;C25D17/06;C25D5/08;C25D7/12;H01L21/67;H01L21/687;H01L21/288 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在一示例中，提供一种用于电镀晶片的电镀设备。该电镀设备包含：晶片支架，其用于在电镀操作期间保持晶片；以及镀覆槽，其被配置成在该电镀操作期间容纳电解液。阳极腔室被设置在该镀覆槽内，以及进料板被设置在该阳极腔室内。阳极被安置在该阳极腔室内的该进料板上方。在一些示例中，该阳极腔室为无膜阳极腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 惰性 阳极 镀覆 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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