[发明专利]用于等离子体处理腔室的导热间隔件在审
| 申请号： | 201980066147.1 | 申请日： | 2019-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN112823406A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 朴范洙;R·L·迪纳;吴桑贞;古田学;艾伦·K·刘;李建恒;赵来;崔寿永;吉万·普拉卡什·塞奎拉;陈威廷;杨晓玲;徐成航;成元镐;洪贤英 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的方面涉及用于在等离子体处理腔室的盖组件内使用的导热间隔件。在一个实施方式中，等离子体处理腔室包括腔室主体和盖组件，所述盖组件耦接至所述腔室主体，从而限定处理空间。所述盖组件包括耦接至所述腔室主体的背板，以及具有从中穿过而形成的多个气体开口的扩散器。所述盖组件还包括设置在所述背板与所述扩散器之间的导热间隔件，以将热从所述扩散器传递至所述背板。所述等离子体处理腔室包括设置在所述处理空间内的基板支撑件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 导热 间隔 | ||
【主权项】：
暂无信息
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