[发明专利]具有干涉涂层的高耐磨性光学制品在审
| 申请号： | 201980067813.3 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN112840237A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | Y·莫伊桑;J·阿尔伯克基达席尔瓦;Y·费尔腾;N·迈特尔;C·瓦伦蒂 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;张振军 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种光学制品，所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的、大于或等于7的拜耳值，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有厚度大于或等于250nm的单层子层、以及多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体。比率：(I)大于或等于1.5，和/或在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的高折射率层的沉积。 |
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| 搜索关键词： | 具有 干涉 涂层 耐磨性 光学 制品 | ||
【主权项】：
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