[发明专利]光学调制器的控制在审
| 申请号： | 201980068689.2 | 申请日： | 2019-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112867964A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | R·M·斯特鲁姆;R·罗基斯基;辛然;C·J·莱本伯格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/03 | 分类号： | G02F1/03;H05G2/00;H01S3/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于极紫外线(EUV)光源的装置，包括光学调制系统，该光学调制系统包括电光材料，该光学调制系统被配置为接收脉冲光束，该脉冲光束包括在时间上彼此分开的多个光脉冲；以及控制系统，该控制系统被配置为控制电源，使得在第一光脉冲入射在电光材料上的同时，向电光材料施加第一电脉冲，在第二光脉冲入射在电光调制器上的同时，向电光材料施加第二电脉冲，并且在第一光脉冲入射在电光材料上之后并且在第二光脉冲入射在电光材料上之前，向电光材料施加中间电脉冲。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 调制器 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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