[发明专利]用于自适应对准的方法和装置在审
| 申请号： | 201980069881.3 | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112955926A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 方伟;浦凌凌 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/33;G06T7/73;G06T7/13;H01L21/67;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 闫昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种将晶片图像与参考图像对准的方法，包括：在晶片图像上搜索目标参考位置，以将晶片图像与参考图像对准；并且响应于确定目标参考位置不存在：在晶片图像上定义当前锁定位置和包围当前锁定位置的区域；计算当前锁定位置的对准评分；将当前锁定位置的对准评分与先前关于将晶片图像与参考图像对准而选择的位置的存储的对准评分进行比较；并且基于所述比较将晶片图像与所述参考图像对准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 自适应 对准 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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