[发明专利]可用于下一代光刻法中的硬掩模制作方法在审
| 申请号： | 201980075389.7 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN113039486A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 蒂莫西·威廉·威德曼;卡蒂·纳尔迪;吴呈昊 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/11;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 衬底的表面上的成像层可以使用下一代光刻技术进行图案化，而产生的图案化膜可被使用作为例如用于半导体装置生产的光刻掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 下一代 光刻 中的 硬掩模 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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