[发明专利]电介质电磁结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201980079872.2 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN113169455A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 詹尼·塔拉斯基;克里斯季·潘采;史蒂芬·奥康纳;克里斯托弗·布朗;特雷弗·波利多尔;艾伦·F·霍恩三世;迪尔克·巴尔斯;罗申·罗斯·乔治;贾里德·迪佩雷;谢莱什·潘迪;卡尔·E·施普伦托尔;肖恩·P·威廉斯;威廉·布拉休斯 申请(专利权)人: 罗杰斯公司
主分类号: H01Q9/04 分类号: H01Q9/04;H01Q21/00;H01Q21/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 刘雯鑫;姚文杰
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种制造电介质Dk电磁EM结构的方法,包括:提供第一模具部分,第一模具部分包括被布置成阵列的第一多个凹部中的基本相同的凹部;用可固化第一Dk组合物填充第一多个凹部,第一Dk组合物完全固化后具有大于空气的介电常数的第一平均介电常数;将衬底放置在填充有第一Dk组合物的第一多个凹部中的多个凹部的顶部上并跨填充有第一Dk组合物的第一多个凹部中的多个凹部,并且至少部分地固化可固化第一Dk组合物;以及从第一模具部分去除衬底以及至少部分固化的第一Dk组合物,使得得到具有衬底以及包含至少部分固化的第一Dk组合物的多个Dk模版的组件,多个Dk模版中的每一个具有由第一多个凹部中的对应凹部限定的三维3D形状。
搜索关键词: 电介质 电磁 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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