[发明专利]电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件有效
| 申请号： | 201980082853.5 | 申请日： | 2019-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN113167928B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 多田一成;粕谷仁一;水町靖 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/18 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张智慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供具有低的光反射率、亲水性和光催化性，耐盐水性或耐伤性等特性也优异的电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质多层膜是在基板上由多个层构成的电介质多层膜，其特征在于，所述多个层具有至少1层低折射率层和至少1层高折射率层，最远离所述基板的最上层为所述低折射率层，在所述最上层的基板侧配置的所述高折射率层为含有具有光催化功能的金属氧化物的功能层，所述最上层为含有具有亲水功能的金属氧化物的亲水性层，并且具有使所述功能层的表面部分地露出的细孔，所述细孔的宽度的平均值为5nm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质 多层 制造 方法 使用 光学 构件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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