[发明专利]膜层结构、膜层结构沉积方法及设备

摘要

本发明提供一种膜层结构、膜层结构沉积方法及设备，膜层结构沉积方法包括如下步骤：提供一批次基底；及采用原子层沉积工艺同时于该批次基底上沉积膜层结构。本发明的膜层结构沉积方法通过采用原子沉积工艺同时于一批次基底上沉积膜层结构，在保证产能的前提下，可以在每个沉积周期中均有足够的时间进行通气及吹扫，每个沉积周期中具有足够的时间完成吸附和排气以实现充分的原子沉积，可以降低膜层结构中的正应力，减少膜层结构中的F含量，降低膜层结构的电阻率，提高膜层结构的良率。