[发明专利]测量装置及方法、曝光装置及方法、以及器件制造方法有效
申请号: | 202010012207.6 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN111045302B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 上田哲宽 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;闫剑平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 对准系统具有:对准系统(50),其具有包含与能够沿Y轴方向移动的晶圆(W)相对的物镜透明板(62)在内的物镜光学系统(60)、一边使测量光(L1、L2)沿Y轴方向扫描一边经由物镜透明板(62)对设置于晶圆(W)的格子标记(GM)照射该测量光(L1、L2)的照射系统(70)、和经由物镜光学系统(60)接受来自格子标记(GM)的该测量光(L1、L2)的衍射光(±L3、±L4)的受光系统(80);以及运算系统,其基于受光系统(80)的输出,求出格子标记(GM)的位置信息,物镜透明板(62)使在格子标记(GM)衍射的衍射光(±L3、±L4)朝向受光系统(80)偏转或衍射。 | ||
搜索关键词: | 测量 装置 方法 曝光 以及 器件 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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