[发明专利]阵列基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010013175.1 申请日: 2020-01-07
公开(公告)号: CN111192974B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 王坤 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板。该阵列基板具有显示区和非显示区,该阵列基板包括衬底基板、栅极驱动电路、平坦化层、像素定义层以及薄膜封装层,在非显示区内的像素定义层和平坦化层上设置多个凹槽,凹槽贯穿像素定义层和平坦化层,凹槽靠近衬底基板一端的截面宽度大于凹槽远离衬底基板一端的截面宽度,凹槽容纳薄膜封装层的无机层,无机层在背离衬底基板一侧表面对应凹槽处形成凹陷。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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