[发明专利]半导体装置及半导体电路有效
申请号: | 202010020268.7 | 申请日: | 2020-01-09 |
公开(公告)号: | CN112542512B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 岩鍜治阳子;末代知子;河村圭子 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/423 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实施方式提供能够实现开关损耗的降低的半导体装置及半导体电路。实施方式的半导体装置具备:具有多个第1沟槽和多个第2沟槽的半导体层、第1沟槽中的第1栅极电极、第2沟槽中的第2栅极电极、第1栅极电极焊盘、第2栅极电极焊盘、将第1栅极电极焊盘与第1栅极电极连接的第1布线及将第2栅极电极焊盘与第2栅极电极连接的第2布线,半导体层具有第1连接沟槽,从多个第1沟槽选出的相邻的2个第1沟槽在各自的端部通过第1连接沟槽而连接,多个第2沟槽内的至少1个第2沟槽设置于相邻的2个第1沟槽间,至少1个第2沟槽中的第2栅极电极在相邻的2个第1沟槽间与第2布线电连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 电路 | ||
【主权项】:
暂无信息
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