[发明专利]半导体装置及半导体电路有效

专利信息
申请号: 202010020268.7 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN112542512B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 岩鍜治阳子;末代知子;河村圭子 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/423
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘英华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供能够实现开关损耗的降低的半导体装置及半导体电路。实施方式的半导体装置具备:具有多个第1沟槽和多个第2沟槽的半导体层、第1沟槽中的第1栅极电极、第2沟槽中的第2栅极电极、第1栅极电极焊盘、第2栅极电极焊盘、将第1栅极电极焊盘与第1栅极电极连接的第1布线及将第2栅极电极焊盘与第2栅极电极连接的第2布线,半导体层具有第1连接沟槽,从多个第1沟槽选出的相邻的2个第1沟槽在各自的端部通过第1连接沟槽而连接,多个第2沟槽内的至少1个第2沟槽设置于相邻的2个第1沟槽间,至少1个第2沟槽中的第2栅极电极在相邻的2个第1沟槽间与第2布线电连接。
搜索关键词: 半导体 装置 电路
【主权项】:
暂无信息
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