[发明专利]目标版图的修正方法及掩膜版版图的形成方法

摘要

一种目标版图的修正方法、掩膜版版图的形成方法及其掩膜版，修正方法包括：提供初始目标版图，所述初始目标版图包括若干初始图形；对所述初始目标版图进行模拟曝光获取模拟曝光版图，所述模拟曝光版图上具有若干与初始图形对应的模拟曝光图形，所述模拟曝光版图包括沿第一方向排列的若干修正区；在至少一个所述修正区的模拟曝光图形中获取目标图形；获取所述目标图形对应的修正区的修正规则；通过所述修正规则对所述目标图形进行修正，获取修正图形。所述修正方法得到的掩膜版版图修正效果较好，精度较高。