[发明专利]一种用于化学机械抛光的浆料分布设备

摘要

本发明公开了一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其结构包括第一电机、工件吸盘、顶架、浆料集中分布装置、导液管、液箱、底架、底座，本发明具有的效果：通过多向排液机构形成的浆液循环结构，能够在工件化学抛光中使研磨浆液在集液圆框和液箱之间循环，利用回液滤杂环筒作为研磨浆液过滤介质，能够滤化使用后的研磨浆液，使含有的研磨颗粒继续回流至集液圆框，从而减少研磨浆液的过量浪费，通过集中汇液机构形成的浆液汇流结构，能够使转盘沿集液圆框转动中，对排入集液圆框中的浆液进行定向集流，使新鲜的浆料及时不断输到工件下面，同时也可以及时地将研磨产生的副产物排除，提高了工件和浆液的反应效果，降低了工件抛光的时间。