[发明专利]一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法有效
申请号: | 202010045219.9 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN111235521B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 陆张武;王迎;李恭剑;徐征驰 | 申请(专利权)人: | 浙江晶驰光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/34;C03C17/22 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 张海兵 |
地址: | 318001 浙江省台州市椒江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法,属于镀膜技术领域。SIH膜制备方法包括:步骤S01,对溅射镀膜机腔体抽真空;步骤S02,将玻璃基片置于镀膜腔室内加热;步骤S03,利用等离子气体Ar,对玻璃基片进行ICP离子预清洗;步骤S04,在靶材附近充入Ar和H2,在直流脉冲模式下用Ar和H2轰击Si靶,在玻璃基片的沉底上形成SIH膜。红外带通多层膜制备方法包括:步骤S10,采用上述方法在玻璃基片上制备SIH膜;步骤S20,在腔体内部充入Ar和O2,用Ar轰击Si靶,生成SiO2膜;步骤S30,重复步骤S10‑S20形成红外带通多层膜。本发明生产成本低,产能高,能生产出N3.68,k0.0002特性的SIH膜和低角度效应的红外带通滤光片。 | ||
搜索关键词: | 一种 sih 制备 方法 外带 多层 | ||
【主权项】:
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