[发明专利]一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法有效

专利信息
申请号: 202010045219.9 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN111235521B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 陆张武;王迎;李恭剑;徐征驰 申请(专利权)人: 浙江晶驰光电科技有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/34;C03C17/22
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 张海兵
地址: 318001 浙江省台州市椒江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种SIH膜制备方法、红外带通多层膜制备方法,属于镀膜技术领域。SIH膜制备方法包括:步骤S01,对溅射镀膜机腔体抽真空;步骤S02,将玻璃基片置于镀膜腔室内加热;步骤S03,利用等离子气体Ar,对玻璃基片进行ICP离子预清洗;步骤S04,在靶材附近充入Ar和H2,在直流脉冲模式下用Ar和H2轰击Si靶,在玻璃基片的沉底上形成SIH膜。红外带通多层膜制备方法包括:步骤S10,采用上述方法在玻璃基片上制备SIH膜;步骤S20,在腔体内部充入Ar和O2,用Ar轰击Si靶,生成SiO2膜;步骤S30,重复步骤S10‑S20形成红外带通多层膜。本发明生产成本低,产能高,能生产出N3.68,k0.0002特性的SIH膜和低角度效应的红外带通滤光片。
搜索关键词: 一种 sih 制备 方法 外带 多层
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶驰光电科技有限公司,未经浙江晶驰光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010045219.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top