[发明专利]一种具有集成续流二极管的GaN纵向场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 202010051716.X 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111223937B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 罗小蓉;欧阳东法;郗路凡;孙涛;杨超;邓思宇;魏杰;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于功率半导体技术领域,涉及一种具有集成续流二极管的GaN纵向场效应晶体管。在反向续流时,集成二极管导通,具有低的导通压降及快的反向恢复特性。在正向导通时,集成二极管处于关断状态,不影响场效应晶体管的正向导通。在正向阻断时,由于P阱及上方半导体区对栅介质的保护,有效降低栅介质电场,提高栅介质可靠性,因此器件具有更高的击穿电压。由于P阱及上方半导体区的屏蔽作用,本发明具有更低的栅漏交叠电容,因此具有更小的开关损耗,同时可以防止误开启。相比传统平面栅场效应晶体管,本发明没有占用额外的芯片面积。
搜索关键词: 一种 具有 集成 二极管 gan 纵向 场效应 晶体管
【主权项】:
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