[发明专利]化学沉积系统在审

专利信息
申请号: 202010054552.6 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN113136573A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 申请(专利权)人: 先丰通讯股份有限公司
主分类号: C23C18/38 分类号: C23C18/38;C23C18/16;H05K3/18
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 赵梦雯;艾晶
地址: 中国台湾桃园市观*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明的化学沉积统主要具有一槽体,该槽体内容置有一化学镀液,可供一加工物置入进行化学沉积;其中,该槽体的内壁为导电材料,另具有一牺牲阴极以及一电源,该牺牲阴极浸置于该化学镀液,而该电源的一正极连接于该内壁,该电源的一负极则连接于该牺牲阴极,利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面,而不会沉积于该内壁,以减少化学沉积槽体的保养频率,以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物,以提升化学沉积的良率。
搜索关键词: 化学 沉积 系统
【主权项】:
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