[发明专利]一种谷胱甘肽响应的氟硼二吡咯抗癌光敏剂及其制备和应用有效
| 申请号： | 202010055337.8 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111233907B | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 刘见永;李小强;操晶晶;杨德潮;张明山;许敢 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 修斯文;蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种谷胱甘肽响应的氟硼二吡咯抗癌光敏剂及其制备。本发明首先制备碘代氟硼二吡咯衍生物和对二甲氨基苯基取代氟硼二吡咯衍生物；前者因为重原子碘的引入，具有高的单线态氧量子产率，可作为光敏剂；后者因为对二甲氨基苯基的引入具有更红的吸收和更弱的荧光发射，是理想的淬灭剂；然后通过含S‑S键的连接臂将光敏剂和淬灭剂共价键连起来，得到谷胱甘肽响应的抗癌光敏剂。该光敏剂可用于荧光成像指导的靶向光动力治疗。该化合物合成方法简单，原料易得，成本低，副反应少，产率较高，易提纯，有利于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 谷胱甘肽 响应 氟硼二 吡咯 抗癌 光敏剂 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
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