[发明专利]光刻胶涂覆装置及光刻胶涂覆方法在审
| 申请号： | 202010055766.5 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN113138535A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 田笵焕;林钟吉;张成根;金在植 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 王娟 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种光刻胶涂覆装置，包括夹盘、光刻胶喷嘴、清洗剂喷嘴、边缘曝光光源、显影剂喷嘴及调整机构，夹盘定位晶圆并带动晶圆旋转，光刻胶喷嘴向定位于夹盘上的晶圆喷涂光刻胶，清洗剂喷嘴向晶圆的边缘的光刻胶喷涂清洗剂，边缘曝光光源对晶圆的边缘的光刻胶进行曝光，显影剂喷嘴向被曝光的晶圆的边缘的光刻胶喷涂显影剂，调整机构调整清洗剂喷嘴保持喷涂的清洗剂与晶圆的表面的角度小于30度，调整机构调整显影剂喷嘴保持喷涂的显影剂与晶圆的表面的角度小于30度。本发明的提供的光刻胶涂覆装置能充分去除光刻胶，且避免清洗剂溅射至晶圆非边缘处的光刻胶上，提高光刻良率。本发明还提供一种光刻胶涂覆方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂覆 装置 方法 | ||
【主权项】：
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