[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202010071407.9 | 申请日： | 2020-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112331545A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 川崎大地 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/67;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方式涉及一种等离子体处理装置及等离子体处理方法。实施方式的等离子体处理装置具备配置在处理室的上部电极、载置台、高频供电部、虚设环、及冷却部。载置台在处理室内与上部电极对向配置，具有下部电极，且载置晶片。高频供电部对下部电极与上部电极之间供给高频电力。虚设环为包围载置在载置台的晶片的环状周缘部的环状部件。在虚设环与晶片的交界区域中，从自晶片离开的方向侧由冷却部将虚设环冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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