[发明专利]晶体管及其制备方法、显示基板和显示装置在审
申请号: | 202010071529.8 | 申请日: | 2020-01-21 |
公开(公告)号: | CN111162129A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 关峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L21/268 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;冯建基 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种晶体管及其制备方法、显示基板和显示装置。该晶体管包括:基底和设置在基底上的栅极、有源层、源极和漏极;源极和漏极分设于有源层的相对两端;有源层包括有源区和围设在有源区外侧的周边区,有源区与周边区相对接,有源区在基底上的正投影至少对应源极和漏极之间的间隔区域在基底上的正投影,有源区包括第一区和第二区,第一区围设于第二区的外围且第一区和第二区相对接,第一区采用非晶硅材料,第二区采用多晶硅材料;源极和漏极均分别与有源区连接。该晶体管结构设计,提升了晶体管的迁移率,降低晶体管的漏电流,并改善晶体管的开态电流和关态电流,有效提升晶体管的性能并简化了其制备工艺,使晶体管的应用更加广泛。 | ||
搜索关键词: | 晶体管 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】:
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