[发明专利]镀膜方法及设备在审
| 申请号： | 202010071739.7 | 申请日： | 2020-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN111172499A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 赵刚科;尹智辉;陈喜文;叶楠琦 | 申请（专利权）人： | 东莞市微科光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/46;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 牛亭亭 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及溅射成膜技术领域，具体公开一种镀膜方法及设备，所述方法包括：在惰性环境中对靶材进行氩离子等离子体轰击以在待镀膜件表面形成第一硅膜镀层；在富氢环境中对所述第一硅膜镀层进行电离以使所述第一硅膜镀层转化为氢化硅镀层；在惰性环境中对靶材进行氩离子等离子束轰击以在所述氢化硅镀层表面形成第二硅膜镀层；在富氧环境中对所述第二硅膜镀层进行电离以使所述第二硅膜镀层转化为二氧化硅镀层。本发明提供一种镀膜方法及设备，能解决传统镀膜工艺容易因掉渣导致不良的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 方法 设备 | ||
【主权项】：
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