[发明专利]光学测定系统和光学测定方法在审
| 申请号： | 202010074101.9 | 申请日： | 2020-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN111486794A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 冈本宗大;稻野大辅;森本晃一;田口都一;龟本智彦 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/25;G01N21/45;G01N21/47;G01N21/59 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学测定系统和光学测定方法，提供一种针对在以往的光学测定装置中测定精度可能降低的样品也能够更高精度地测定光学特性的结构。光学测定系统包括：光源，其发出用于向样品照射的测定光；分光检测器，其接收由测定光在样品处产生的反射光或透射光；以及处理装置，其被输入分光检测器的检测结果。处理装置构成为能够执行以下处理：基于分光检测器的检测结果，来计算第一光谱；在第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间；以及使用从第一光谱去除所确定的区间的信息所得到的第二光谱，来计算样品的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测定 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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