[发明专利]掩模板及其制备方法、掩模板组件在审
| 申请号： | 202010075660.1 | 申请日： | 2020-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN111172495A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 郑勇;杜帅;丁文彪;代俊秀;高春燕 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;姜春咸 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种掩模板及其制备方法、掩模板组件。该掩模板包括两个开孔区和两个焊接区，两个开孔区分别位于掩模图案区的沿第一方向的不同侧，其中，一个焊接区位于一个开孔区的沿第一方向远离掩模图案区的一侧，另一个焊接区位于另一个开孔区的沿第一方向远离掩模图案区的一侧；掩模单元内设置有多个蒸镀孔，开孔区内设置有多个缓冲孔，缓冲孔在平行于掩模板所处平面的任意方向上的最大尺寸与蒸镀孔在该方向上的最大尺寸之比大于100，多个缓冲孔沿第二方向等间距分布，第二方向位于掩模板所处平面且垂直于第一方向。有效缓解掩模板张网时的褶皱不良。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 及其 制备 方法 组件 | ||
【主权项】：
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