[发明专利]流体杀菌装置在审
| 申请号： | 202010085858.8 | 申请日： | 2020-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN111732158A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 樱井公人;加藤刚雄;藤冈纯;田中贵章;聂栋兴 | 申请（专利权）人： | 东芝照明技术株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;A61L9/20;B01D53/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是维持杀菌性能。实施方式的流体杀菌装置包括处理室、光源室、分隔构件及第一膜。处理室对流体进行处理。光源室设置有朝向处理室照射紫外线的光源。分隔构件具有紫外线透过性，将处理室与光源室加以划分。第一膜将与处理室相向的分隔构件的第一面加以覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 杀菌 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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